Sur le plateau de lithographie, un décalage de demi-degré pendant le processus de chauffe suffit à perturber la précision des paramètres de chauffage des wafers, ce qui peut endommager de nombreux wafers de bonne qualité. Nous avons conçu nos lampes de chauffage pour éliminer ce type de décalage dès son apparition : un contrôle thermique précis qui permet de maintenir les paramètres désirés sans avoir à deviner quoi faire.
Ce qui est important en réalité Nous utilisons des lampes halogènes à ondes infrarouges courtes (SWIR), placées dans des enveloppes en quartz. Le réglage de la température se fait rapidement, et le niveau de stabilité est élevé. L’uniformité de la température sur la surface du wafer reste comprise entre ±0,1 °C dans toute la zone éclairée. Ainsi, la température du photorésiste suit les paramètres prévus, et non ceux imposés par l’équipement.
Le système est compatible avec des salles propres de classe 1 à classe 100. Les équipements et matériaux utilisés visent à minimiser la formation de particules. La reproductibilité des résultats est assurée même en conditions de fonctionnement 24/7. Les données d’exploitation montrent que la qualité du signal spectral reste stable après plus de 5 000 heures de fonctionnement.
Pourquoi cela fonctionne bien en production Lors des processus de chauffe douce ou forte, la lampe permet de contrôler précisément les paramètres thermiques liés à l’élimination des solvants, à la transition vitreuse et à la sélectivité de l’étching. Cela se traduit par une meilleure précision des paramètres de chauffage, une densité de défauts réduite, et moins de retouches nécessaires.
Une réponse thermique rapide et un couplage efficace des ondes infrarouges permettent de réduire la consommation d’énergie. De plus, la durée de vie de la lampe est prolongée grâce à des cycles de fonctionnement longs, avec des intervalles de maintenance prévisibles.
Les détails pratiques Pour obtenir la meilleure uniformité, il est nécessaire que le trajet optique soit aligné avec le plan du wafer, et que la géométrie du réflecteur corresponde aux exigences du processus. Il faut également prévoir un temps de mise en service suffisant pour que les systèmes thermiques atteignent leur état stable avant de pouvoir valider le profil de chauffe.
Il est également important de prendre en compte les besoins en termes d’énergie et de compatibilité avec les autres équipements. Nous fournissons des indications concernant l’installation électrique afin de s’adapter aux installations existantes.