在光刻过程中，即使只有半度的温度偏差，也足以导致CD偏移，进而损坏许多优质的晶圆。因此，我们设计了专门的晶圆加热装置，从源头消除这种温度偏差——通过精确的热控机制来维持设定的温度值。
关键在于内部设计
我们使用石英封装的短波红外卤素灯。其升温速度很快，且能够保持稳定的状态。在照明区域内，晶圆的温差控制在±0.1°C以内，这样光阻层的温度就能按照预设条件变化，而不会受到设备本身的影响。
该系统适用于从1级到100级的洁净室环境，所有部件和材料都经过精心挑选，以确保颗粒生成量尽可能为零。即便在24/7连续运行情况下，系统的输出稳定性依然良好，且经过5,000小时以上的使用后，其光谱输出仍保持稳定。
为何能在生产中发挥良好作用
在软烘和硬烘过程中，这些灯能够精确控制影响溶剂去除、玻璃化转变以及蚀刻选择性的热参数。这样一来，就能实现更精准的CD控制，从而降低缺陷率，减少返工次数。
快速的热响应以及高效的短波红外辐射技术有助于降低能耗，同时由于灯具可以长时间运行且维护周期清晰可预测，因此设备的可用性也得到了提升。
实际应用中的注意事项
要获得最佳的均匀性，需确保光路与晶圆表面保持平行，且反射器的结构也要与工艺要求相匹配。在确定烘烤参数之前，需要先让设备进行一段时间的预热，以使温度达到稳定状态。此外，还需要考虑设备所需的电源以及与其他设备的兼容性——我们会提供相应的接线指南，以便与您现有的设备相匹配。