Auf einer Linie mit einer Länge von 300 mm reicht bereits eine Abweichung von einem Halbdegree während des Trocknungsprozesses aus, um die Breite der Schichten zu verfälschen – was wiederum dazu führt, dass viel Material verschwendet wird. Genau für solche Anwendungen haben wir diesen vakuumkompatiblen IR-Heizer entwickelt: In solchen Umgebungen ist die thermische Energieausbeute äußerst wichtig, und die Anzahl der Partikel in der Reinraumluft wird in Molekülen gemessen.
Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Kurzwell-Infrarotstrahler in einer Quarzkonstruktion – dadurch wird die Wärme direkt in den Photoresistent sowie ins Substrat geleitet. Die Reaktionszeit beträgt weniger als eine Sekunde; es ist kein Kontakt notwendig. In der gesamten Prozesszone bleibt die Homogenität auf dem Wafer-Niveau bei ±0,1°C, und die Wiederholbarkeit zwischen verschiedenen Chargen liegt bei ≤0,2°C.
Der Heizer kann durch standardisierte Befestigungen in Vakuumkammern sowie Fertigungsmaschinen eingebaut werden – dabei ist auch eine Abschirmung gegen RF-/DC-Signale enthalten. Er bleibt in Umgebungen der Klasse 1–100 sauber und erzeugt keine Partikel. Die Temperatur wird über kalibrierte Pyrometer gesteuert, und das thermische Profil kann an NIST-referenzierte Standards angepasst werden.
Warum dieser Heizer in der Lithografie geeignet ist:
In der Lithografie sind stabile Trocknungsprozesse notwendig, um das Entfernen von Lösungsmitteln, den Filmstress sowie Abweichungen in der Dicke der Schichten unter Kontrolle zu halten. Dieser Heizer sorgt dafür, dass die Trocknungskurve konstant bleibt – dadurch werden Abweichungen in der Dicke der Schichten vermieden und die Ausbeute erhöht. Die schnelle thermische Reaktion verkürzt außerdem die Zeit, die für den Trocknungsprozess benötigt wird.
Die Vakuumkompatibilität verhindert außerdem Kontaminationen durch Lecks. Zudem wird der Energieverbrauch reduziert, da die Wärme nur dann bereitgestellt wird, wenn sie benötigt wird – anstatt in einer großen, heißen Masse zu bleiben. Wir haben bereits Geräte gesehen, die mehr als 5.000 Stunden lang ohne mehr als 5% Leistungseinbußen funktionierten – somit eignen sie sich ideal für 24/7-Betrieb mit geringerer Anzahl an Partikeln.
Was man vorab wissen sollte:
Die Installation erfordert eine präzise Ausrichtung bezüglich der Sichtlinie zum Wafer sowie die richtige Einstellung der Emittivität für die jeweilige Anwendung. Glasträger, BARC sowie antireflexive Beschichtungen beeinflussen alle die thermische Kopplung.
Es handelt sich dabei nicht um ein einfach einzubauendes Zubehör für jede Plattform. Man benötigt einen speziellen Steuerungscontroller sowie eine perfekte mechanische Passform. Planen Sie außerdem eine kurze Einrichtungsphase, um das thermische Profil an die Anforderungen anzupassen – anschließend kann es in die Prozessspezifikationen integriert werden.