Heizelement zur Charakterisierung von Halbleiterbauelementen

Sat, 20 Jun 2026 02:05:56 +0800

Bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen ist die Stabilität des Fotolacks nicht nur von Vorteil – sie ist vielmehr entscheidend für den gesamten Herstellungsprozess. Eine Abweichung von 1 °C während des Trocknungsprozesses stört das gesamte thermische Gleichgewicht, und das zeigt sich sofort im Erodierprofil. Wir haben unseren Heizer für die Charakterisierung von Halbleiterbauelementen so konstruiert, dass diese Abweichungen vermieden werden.

Was wirklich wichtig ist:
Es muss eine thermische Homogenität auf Wafer-Ebene von ±0,1 °C über die gesamte aktive Oberfläche hinweg gegeben sein. Dadurch bleibt jeder Trocknungsprozess innerhalb der vorgegebenen Parameter. In Reinräumen der Klasse 1–100 wird dies durch ein Design mit minimalem Staubgehalt sowie Materialien mit geringer Gasemission gewährleistet. Eine Null-Staub-Strategie hilft dabei, die Anzahl der Defekte unter Kontrolle zu halten. Der Heizer kann außerdem 24/7 in der Produktionsumgebung betrieben werden, ohne dass es zu ungeplanten Stillständen kommt. Die Wiederholgenauigkeit wird nicht nur behauptet – sie wird auch tatsächlich gemessen. Jeder Trocknungszyklus erfolgt bei derselben Temperaturkurve.

Characterization on Warm IR Heater Store

Heizelement zur Charakterisierung von Halbleiterbauelementen