Tinggalkan penggunaan udara panas: Mengapa pemanas inframerah vakum merupakan pilihan yang lebih baik
Jika Anda masih menggunakan sistem sirkulasi udara panas untuk proses pemrosesan semikonduktor, Anda pasti sudah menyadari betapa lambatnya proses tersebut. Ini sangat mengganggu. Anda harus menunggu hingga seluruh udara di dalam ruang proses menjadi panas terlebih dahulu sebelum wafer bisa diproses. Proses ini sangat lambat, sehingga merusak efisiensi kerja Anda.
Itulah sebabnya kami beralih ke pemanas inframerah vakum. Dengan cara ini, udara sama sekali tidak terlibat dalam proses pemanasan.
Kecepatannya luar biasa.
Bayangkan saja: pemanas inframerah menggunakan radiasi elektromagnetik. Dalam kondisi vakum, tidak ada halangan apa-apa yang menghalangi radiasi tersebut. Foton-foton tersebut langsung mengenai permukaan wafer. Tidak perlu menunggu udara untuk membawa panas tersebut. Respon termal yang didapatkan hampir instan.
Bagi manajer pabrik, ini merupakan hal yang sangat menguntungkan. Waktu yang dibutuhkan untuk memanaskan ruang proses dari 20 menit menjadi hanya beberapa detik saja.
Namun, Anda tidak bisa sembarangan menggunakan lampu pemanas. Lingkungan vakum sangat berbahaya bagi perangkat keras. Kami menggunakan elemen kuarsa berdaya tinggi untuk mengonsentrasikan panas tersebut. Namun, karena tidak ada udara yang dapat membawa panas berlebih keluar dari perangkat, perangkat tersebut akan rusak.
Perhatikan sistem pendinginan Anda. Jika sistem pendinginan Anda tidak cukup kuat untuk menangani panas berlebih, maka bagian-bagian perangkat akan rusak. Ini merupakan masalah yang tidak ingin Anda hadapi.
Yang bagusnya adalah ukuran perangkat menjadi lebih kecil. Anda tidak perlu lagi menggunakan blower besar atau saluran udara yang rumit. Cukup hubungkan kabel pemanas inframerah, atur pengaturan PID-nya, dan selesai.
Namun, ada satu masalah: keseragaman panas. Radiasi inframerah bersifat terarah, sehingga jika tidak hati-hati, bisa terjadi titik-titik panas yang berlebihan. Kami mengatasi hal ini dengan menggunakan reflektor berlapis emas atau array berbilang sudut agar panas tersebar secara merata.
Selain itu, faktor kebersihan juga penting. Dengan menghentikan sirkulasi udara, partikel-partikel dan turbulensi di sekitar permukaan wafer juga akan berhenti. Tidak ada kotoran, tidak ada risiko. Hanya radiasi yang bersih dan terarah saja.