Pemanas pengering wafer otomatis

Thu, 02 Jul 2026 03:14:23 +0800

Pada proses pengeringan dengan panjang gelombang 300 mm, kita akan segera menyadari bahwa penyimpangan suhu sebesar kurang dari 0,1°C selama tahap pengeringan bukanlah angka yang “kecil”. Penyimpangan tersebut dapat menyebabkan perubahan ukuran partikel hingga tingkat nanometer, sehingga mempengaruhi kualitas produk. Pemanas otomatis untuk pengeringan wafer bukan sekadar alat pemanas biasa; alat ini berfungsi sebagai alat pengendali suhu yang penting dalam proses pembakaran photoresist, serta dalam proses pengeringan setelah pembersihan wafer. Hal ini sangat penting agar wafer tetap memenuhi standar kualitas yang ditetapkan, atau jika tidak, wafer tersebut akan dibuang.

Lampu wafer pengering cepat setelah pembilasan

Wed, 03 Jun 2026 01:26:39 +0800

Di lantai fab, langkah bilas adalah risiko terkendali. Air yang tersisa berarti mikro-kontaminasi, dan siklus pengeringan yang lemah dapat memaksa pengerjaan ulang photoresist—atau menurunkan hasil sebelum pola bahkan mengenai wafer. Lampu pengering cepat setelah bilas ini dibuat untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut.

Apa yang penting di balik sistem
Kami membangun ini menggunakan pemancar inframerah gelombang pendek (SWIR), sehingga pengeringan berlangsung cepat dan tanpa kontak. Panas berpindah dengan cepat tanpa merusak mekanis, dan kami menjaga keseragaman termal di seluruh wafer pada ±0,1°C. Hal ini penting saat Anda melindungi anggaran termal photoresist melalui transisi soft bake dan hard bake.

Mengeringkan on Warm IR Heater Store

Pemanas pengering wafer otomatis

Lampu wafer pengering cepat setelah pembilasan