Riscaldatore automatico per essiccazione dei wafer
Nella linea di produzione da 300 mm, si impara rapidamente che una deviazione di meno di 0,1°C durante la fase di essiccazione o cottura non è...
Lampada per il riscaldamento dei wafer di alta qualità
Sul piano di lavoro in litio, anche un lieve spostamento di mezzo grado durante il processo di riscaldamento è sufficiente per alterare i parametri...
Lampada per asciugatura rapida della cialda dopo il risciacquo
Sulla linea di produzione, la fase di risciacquo rappresenta un rischio controllato. L’acqua residua implica micro-contaminazioni, e un ciclo di...