<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Vakum on Warm IR Heater Store</title>
		<link>http://warm-ir-heater-store.com/ms/tags/vakum/</link>
		<description>Recent content in Vakum on Warm IR Heater Store</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 11:28:56 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-store.com/ms/tags/vakum/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum.</title>
				<link>http://warm-ir-heater-store.com/ms/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 11:28:56 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-store.com/ms/posts/vacuum-compatible-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-store.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Pemanas inframerah yang sesuai untuk digunakan dalam keadaan vakum.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada garis pengeluaran sepanjang 300mm, perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk menyebabkan variasi ketebalan garis tersebut, dan akibatnya banyak produk yang tidak berkualiti akan terhasil. Inilah sebabnya kita mencipta &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;Pemanas&lt;/a&gt; IR yang sesuai digunakan dalam persekitaran vakum ini – di mana had suhu sangat &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;ketat&lt;/a&gt;, dan jumlah zarah di dalam bilik bersih diukur dalam unit molekul.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Pemanas inframerah gelombang pendek ini beroperasi dalam sistem kuarsa, di mana haba disalurkan terus ke bahan fotoresist dan substrat. Masa tindak balasnya adalah kurang dari satu saat, tanpa memerlukan sentuhan fizikal. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ulangan proses antara kumpulan produk yang berbeza adalah ≤0.2°C.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
