Op een lijn van 300 mm is een afwijking van half een graad tijdens het verhitten van de fotoresist al voldoende om de breedte van de lijnen te verstoren en veel producten onbruikbaar te maken. Dit is juist de wereld waarvoor we deze vacuümgeschikte IR-verwarmer hebben ontwikkeld: een omgeving waarin de thermische behoeften strikt beperkt zijn en waar de concentratie deeltjes in de zuiverruimtes wordt gemeten in moleculen.
Wat technisch gezien belangrijk is:
We gebruiken kortegolflange infraroodemitters in een kwartsopstelling. Hierdoor wordt de warmte rechtstreeks naar de fotoresist en het substraat geleid. De reactietijd is minder dan een seconde; er is geen contact nodig. Over de hele proceszone blijft de uniformiteit op het niveau van ±0,1°C, terwijl de herhaalbaarheid tussen batches op ≤0,2°C ligt.
De verwarmer kan gemakkelijk worden geplaatst in vacuümkamers en productiemachines, dankzij gestandaardiseerde aansluitingen. Er zit ook RF/DC-scherming bij. De verwarmer blijft schoon in omgevingen van klasse 1–100, zonder dat er deeltjes worden geproduceerd. De temperatuur wordt gereguleerd met behulp van gekalibreerde pyrometrie, en het thermische profiel kan worden vergeleken met NIST-standaarden.
Waarom dit werkt in de litografie:
In de litografie is het belangrijk om stabiele temperaturen te bereiken tijdens het verhitten van de materialen, zodat oplosmiddelen kunnen worden verwijderd en spanningen in het materiaal kunnen worden verminderd. Deze verwarmer zorgt voor een constante temperatuur, waardoor de variaties in de kwaliteit van het product worden verminderd. De snelle thermische respons verkort bovendien de tijd die nodig is voor één procescyclus.
Het feit dat de verwarmer compatibel is met vacuüms, verdient ook aandacht: dit voorkomt contaminatie door lekken. Bovendien neemt het energieverbruik af, omdat de warmte op vraag wordt geleverd, in plaats van dat deze wordt opgeslagen in een grote, hete massa. We hebben apparaten zien werken gedurende meer dan 5.000 uur, met minder dan 5% daling in de prestaties. Dit maakt het mogelijk om de apparaten 24/7 te gebruiken, met minder onderhoudskosten.
Wat je van tevoren moet weten:
Voor de installatie is het belangrijk om de richting van de straling op de wafer goed te bepalen, en om de emissiviteit van het materiaal correct in te stellen. Glazen dragers, BARC en antireflectieuze coatingen beïnvloeden allemaal de thermische overdracht.
Dit is geen ‘plug-and-play’-oplossing voor elke platform. Je hebt een speciale controller nodig, evenals een goede mechanische aansluiting. Plan eerst een kort testproces om het thermische profiel te bepalen, en pas dit vervolgens aan op de vereisten van het proces.