Vakum on Warm IR Heater Store

Vakum odası kızılötesi ısıtıcı

Fri, 17 Jul 2026 01:35:35 +0800

Sıcak hava yöntemlerinden vazgeçin: Neden vakumla çalışan kızılötesi ısıtıcılar en iyi çözümdür?
Eğer hâlâ yarı iletken işlemlerinde sıcak hava yöntemlerini kullanıyorsanız, muhtemelen yaşanan gecikmelerin farkındasınızdır. Bu durum oldukça sinir bozucudur. Aslında, wafer’in ısınması için tüm oda ve içindeki her bir hava molekülünün ısınmasını beklemek zorundasınız. Bu yavaş süreç, işlemlerin verimliliğini düşürür.

İşte bu yüzden vakumla çalışan kızılötesi ısıtıcılara geçtik. Havadan tamamen kurtulduk.
Hız inanılmaz derecede yüksek.
Bunu şöyle düşünün: Kızılötesi ısıtıcılar elektromanyetik radyasyon kullanır. Vakum ortamında ise hiçbir engel yoktur. Fotonlar doğrudan yüzeye çarpar. Odayı ısıtmaya veya sıcaklığın yayılmasını beklemeye gerek yoktur. Termal tepki neredeyse anlık olur.

Vakumla uyumlu kızılötesi ısıtıcı

Wed, 17 Jun 2026 11:28:56 +0800

300 mm çapındaki hatlarda, fotoresistin ısıtılması sırasında meydana gelen yarım derecelik bir sapma bile kenar genişliklerini bozmaya ve büyük miktarda ürünün işe yaramaz hale gelmesine neden olabilir. Bu yüzden bu vakum uyumlu IR ısıtıcıyı böyle bir ortam için geliştirdik; burada termal bütçe çok önemli bir faktördür ve temiz oda koşullarında partikül sayısı molekül cinsinden ölçülür.

Teknik açıdan önemli olanlar Kısa dalga boylu kızılötesi ışık kaynaklarını kuvars yapıları içinde kullanıyoruz; böylece ısı doğrudan fotoresiste ve alt tabakaya iletiliyor. Tepki süresi saniyenin altındadır ve herhangi bir temas gerekliliği yoktur. İşlem bölgesinde wafere uygulanan ısı miktarı ±0,1°C civarında sabit kalır ve farklı partieler arasındaki tekrarlanabilirlik ise ≤0,2°C olarak devam eder.

Vakum fırını ısıtma elemanı üretimi

Fri, 05 Jun 2026 01:23:25 +0800

Fab katında, foto direnç pişirme bir ısınma değildir. İşlemdeki menteşe noktasını oluşturur.

Yumuşak pişirme veya sert pişirme 1.5°C kayarsa, CD kontrolünde bunu göreceksiniz. Kenar damlası ortaya çıkmaya başlar. Waferlar hurdaya çıkar. Vakumlu fırının ısıtıcı elemanları, vakum altında kararlı, tekrarlanabilir ısı sağlamalıdır—partikül eklemeden veya homojenliği kaybetmeden. Teknik olarak odaklandığımız noktalar Foto direnç işleme ve litografi için vakumlu fırınlar için ısıtıcı elemanlar tasarlıyoruz ve wafer düzlemindeki sıcaklık homojenliğini ±0.1°C hedefliyoruz. Kısa dalga infrared (NIR) kuvars vericiler kullanıyoruz, bu sayede ramp kontrolü sıkı ve termal bütçe disiplinli kalıyor. İnşaat, Sınıf 1-100 için temiz oda uyumludur. Kullanılan malzemeler düşük gaz salınımlıdır ve termal döngü partikül üretmez. Güç yoğunluğu, sıcak noktalardan kaçınmak için odacık geometrisi ile eşleştirilmiştir ve sıcaklık tekrarlanabilirliği her pişirmede sabit kalır. Üretimde bunun önemi Güvenebileceğiniz bir pişirme profiline ihtiyacınız var, gün be gün. Bu elemanlar fırın sıcaklık profilini stabilize eder, böylece çizgi genişliği kontrolü sabit kalır ve foto direnç profilleri partiler arasında tutarlıdır. Bu, daha az yeniden işleme, sabit kalan bir verim ve etrafında plan yapabileceğiniz döngü süreleri anlamına gelir. Enerji kullanımı düşer çünkü NIR, ısıyı havaya boşaltmak yerine doğrudan wafer ve odacığı ısıtır. Yerine geçen aralıkları da uzatır—eleman tasarımı sıcak nokta bozulmasına karşı dayanıklıdır, bu nedenle yedek parça tüketimi azalır. Birkaç pratik not Elemanlar, uluslararası yarı iletken ekipman standartlarını karşılayacak şekilde tasarlanmıştır ve eşdeğer alternatifler olarak doğrulanmıştır. Kurulum, fırının voltajı, konektör arayüzü ve montaj boşlukları ile eşleşmelidir. Bağlantılar hizalanmazsa, düzensiz ısıtma alırsınız. Kurulumdan sonra bir pişirme ve vakum koşullandırma döngüsü planlayın. Bu, kalıntı nemini giderir ve temel tekrarlanabilirliği yerleştirir.