<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Nhanh on Warm IR Heater Store</title>
		<link>http://warm-ir-heater-store.com/vi/tags/nhanh/</link>
		<description>Recent content in Nhanh on Warm IR Heater Store</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 01:26:39 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-store.com/vi/tags/nhanh/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Đèn làm khô nhanh bản mạch sau khi rửa</title>
				<link>http://warm-ir-heater-store.com/vi/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 01:26:39 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-store.com/vi/posts/fast-drying-wafer-after-rinse-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-store.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Đèn làm khô nhanh bản mạch sau khi rửa&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên sàn sản xuất, bước rửa là một rủi ro được kiểm soát. Nước còn sót lại đồng nghĩa với vi-contamination, và chu trình sấy yếu có thể buộc phải làm lại &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;photoresist&lt;/a&gt;—hoặc làm giảm tỷ lệ thành phẩm ngay trước khi mẫu hình được in lên wafer. Đèn sấy nhanh wafer sau bước rửa được thiết kế để loại bỏ sự không chắc chắn đó.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Điều quan trọng bên trong thiết bị&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Chúng tôi xây dựng thiết bị này dựa trên các bộ phát hồng ngoại sóng ngắn (SWIR), giúp quá trình sấy diễn ra nhanh chóng và không tiếp xúc. Nhiệt truyền nhanh mà không gây trầy xước cơ học, đồng thời duy trì độ đồng đều nhiệt trên wafer ở mức ±0.1°C. Điều này rất quan trọng khi bạn cần bảo vệ ngân sách nhiệt của photoresist qua các giai đoạn soft bake và hard bake.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
