リソグラフィー装置の床面上では、ソフトベイク時にわずか0.5度のずれがあっても、CDバイアスが変化し、多くの良品ウエハーが損傷してしまいます。そうしたずれを防ぐために、私たちはウエハー加熱用ランプを独自に開発しました。これにより、設定値を正確に維持でき、推測に頼らずに温度をコントロールできます。
内部で重要なのは何か
私たちは、石英製のケース内で短波長赤外線ハロゲンランプを使用しています。温度上昇が速く、安定状態を保ちやすいです。照明領域全体でのウエハー表面の温度均一性は±0.1℃以内に抑えられており、フォトレジストの温度も所定の範囲内に保たれます。
このシステムは、クラス1からクラス100までのクリーンルーム環境に適合しており、粒子の発生をできるだけ抑えるために、適切な部品や材料が選ばれています。24時間365日運転しても出力の再現性が保たれ、5,000時間以上の稼働後でも安定したスペクトル出力が得られます。
なぜ生産現場で効果的なのか
ソフトベイクやハードベイク時には、ランプが溶剤の除去やガラス転移、エッチングの選択性を制御するための熱的条件を厳格に管理します。その結果、CDの精度が向上し、不良率が低下し、再作業が減少します。
迅速な温度応答と効率的なSWIRカップリングにより、エネルギー消費が削減され、メンテナンスサイクルが明確になるため、稼働時間も増えます。
実用的な詳細
光路がウエハー面に正しく対応し、反射器の形状が処理条件に適合している場合、最も優れた均一性が得られます。ベイクプロファイルを確定させる前には、短時間のウォームアップが必要です。
また、装置側の電力供給やインターロック機能との互換性も考慮する必要があります。弊社では、既存のプラットフォームに合わせた配線ガイドも提供しています。