300mmラインでは、フォトレジストの焼成中に半度程度のずれが生じるだけで、ウェーハの幅が狂ってしまい、多くの製品が廃棄されてしまいます。これこそが、私たちがこの真空対応型IRヒーターを開発した背景です。ここでは、熱管理が非常に重要であり、クリーンルーム内の粒子数は分子単位で測定されます。
技術的に重要な点 当社の装置は、石英製の構造を持ち、短波長の赤外線を直接フォトレジストや基板に照射します。応答速度は数秒未満で、接触は不要です。プロセスエリア全体でのウェーハの均一性は±0.1℃以内であり、ロット間の再現性も≤0.2℃以内です。
このヒーターは、標準化されたフランジを介して真空チャンバーや製造装置に取り付けられ、RF/DCシールドも備わっています。クラス1～100の環境下でも汚染が起きず、粒子が発生しません。温度は校正済みの測温器を使って制御され、熱分布はNISTの基準に合致しています。
なぜリソグラフィーで有効なのか リソグラフィーでは、溶剤の除去やフィルムの応力、CDのばらつきを管理するために、安定したソフトベイクとハードベイクが必要です。この装置はベイク曲線を正確に制御し、CDのばらつきを防ぎ、歩留まりを向上させます。また、迅速な熱応答により、チャンバーのサイクルタイムも短縮されます。
真空対応性により、漏れによる汚染のリスクがなくなります。また、熱が必要な時だけ供給されるため、エネルギー消費も削減されます。実際、5,000時間以上稼働しても出力の低下は5％未満であり、24時間365日の運転にも適しています。
事前に知っておくべきこと 設置にあたっては、ウェーハに対する視線方向の調整や、使用する材料に適した放射率の設定が必要です。ガラス製のキャリアやBARC、反射防止コーティングなどは、熱伝達に影響を与えます。
これは、どんなプラットフォームにもそのまま使えるアドオン装置ではありません。専用のコントローラーアインターフェースと、適切な機械的接続が必要です。まずは短時間のテスト運転を行い、熱分布を把握した上で、プロセス仕様に合わせて設定を固定する必要があります。