Kami telah mencipta pemanas pengganti ini untuk memenuhi keperluan suhu yang tinggi yang diperlukan dalam proses pemprosesan wafer yang canggih. Tujuannya adalah untuk mengekalkan suhu pada tahap yang tepat, dari satu kitaran ke kitaran seterusnya, tanpa sebarang perubahan – iaitu pada tahap 0.1°C sahaja. Apabila nilai suhu diukur dalam unit nanometer, perubahan suhu bukan sekadar “toleransi” semata-mata; ia merupakan faktor yang menentukan kualiti wafer yang dihasilkan dan masa yang terbuang.
Kuasa, Voltan, dan Reka Bentuk:
Pemanas pengganti ini direka untuk menghasilkan haba yang banyak dalam ruang yang kecil. Input 400V digunakan untuk mengurangkan arus yang mengalir melalui wayar, sekaligus mengurangkan kerugian tenaga akibat rintangan elektrik. Ini penting apabila modul-modul dipasang berdekatan antara satu sama lain, di mana ruang sangat terhad.
Tahap kuasa pemanas ini disesuaikan dengan beban yang dikenakan pada bilik pemprosesan asal. Dengan cara ini, litar PID tidak perlu mencari semula titik tetapan suhu yang sesuai. Panjang dan diameter tiub pemanas juga direka agar sesuai dengan geometri bilik pemprosesan, supaya kawasan panas berada tepat di tempat yang diharapkan. Dengan cara ini, prestasi pemanas dapat dikekalkan secara konsisten, tanpa perlu menala semula keseluruhan sistem.
Komponen Dalaman:
Di dalam pemanas ini terdapat unsur halogen yang beroperasi di dalam kotak kuarza. Unsur halogen ini membantu mengekalkan kestabilan suhu pada suhu yang tinggi, serta mengurangkan fenomena penggelapan permukaan pemanas seiring berjalannya waktu. Kotak kuarza pula mampu menahan perubahan suhu yang mendadak dan mengelakkan retakan akibat tekanan haba.
Permukaan yang dilapisi bahan tertentu membantu mengawal kadar pelepasan haba, sekaligus mengelakkan pembentukan kawasan panas. Ini memastikan suhu lebih seragam di seluruh kawasan yang dituju – sesuatu yang sangat penting untuk mencapai tahap ketepatan 0.1°C. Untuk pemasangan, kami menggunakan antaramuka sambungan yang terbukti berkualiti tinggi seperti R7s dan SK15. Antaramuka ini direka untuk digunakan dalam sistem yang memerlukan suhu yang tinggi, memberikan kontak yang stabil, dan memudahkan proses pemasangan tanpa masalah.
Manfaatnya untuk Operasi Semikonduktor:
Konfigurasi ini direka khusus untuk bilik pemprosesan semikonduktor, di mana kestabilan operasi dan kemampuan untuk mengulangi proses pemprosesan adalah perkara yang paling penting. Anda akan mendapat kawalan suhu yang stabil, pengagihan haba yang baik, serta reka bentuk yang serupa dengan pemanas asal.
Namun, ada juga pertukaran yang perlu dilakukan: intensiti haba yang tinggi bermakna sistem penyejukan dan kabel elektrik perlu memenuhi spesifikasi yang ditetapkan. Jika sistem penyejukan tidak mampu mengimbangi haba yang dihasilkan, pemanas akan menjadi terlalu panas. Namun, apabila sistem disesuaikan dengan betul, kawalan suhu pada tahap 0.1°C dapat dicapai, dan kosnya masih berpatutan untuk fasiliti pemprosesan skala besar.