Neden kurşunsuz yarı iletken üretiminde kızılötesi teknolojisini kullanıyoruz?
İnsanlar wafer üretiminde “yeşil teknolojiler” veya “kurşunsuz üretim” konularından bahsettiğinde genellikle kimyasallara odaklanırlar. Ancak aslında burada önemli olan şey, ısıyı nasıl yönettiğinizdir. İşte bu yüzden kızılötesi teknolojisinden yararlanıyoruz. Tüm üretim odasını ısıtmak yerine, sadece substratı hedef alıyoruz.
Isının gerçekten önemli olduğu yere gitmesi
Standart bir konveksiyon fırını düşünün; havayı ısıtmak için çok fazla zaman harcar. Bu da israftır. Kızılötesi teknolojisi ise farklıdır. Elektromanyetik radyasyon kullanarak yapıştırıcı veya foto dirençteki molekülleri harekete geçirir. Sonuç olarak waferler saniyeler içinde doğru sıcaklığa ulaşır. Makinenin tüm kısımlarıyla mücadele etmek zorunda kalmazsınız; işte bu yüzden kızılötesi teknolojisi, temiz oda ortamlarında enerji tasarrufu sağlamak için tercih edilen bir yöntemdir.
“Optimal noktada kalma”
Kurşunsuz polimerler ve lehim malzemeleri hassastır; çok dar bir sıcaklık aralığına sahiptirler. Eğer sıcaklık fazla artarsa, waferlerde deformasyonlar oluşabilir veya kalıcı hasarlar meydana gelebilir. Bunu önlemek için cihaza hassas sensörler yerleştiriyoruz; böylece sıcaklık değişiklikleri anında tespit edilebiliyor. Kısa dalga boyundaki kızılötesi ışınlar sayesinde ısıyı hızla artırabilir veya hemen durdurabiliriz. Bu kontrol seviyesi, kimyasalları bozan yavaş ısıtma yöntemlerinde elde edilemez.
Ödünler (çünkü her zaman bir ödün vardır)
Kızılötesi teknolojisi oldukça hızlıdır. Ancak bu hızın bir bedeli vardır. Isı yoğunluğu çok yüksektir. Eğer sensörler yanlış yerdeyse veya PID döngüsü doğru şekilde ayarlanmamışsa, wafer üzerinde sıcak noktalar oluşur. Ayrıca soğutma sisteminin bu hızlı değişimlere ayak uydurabilmesi gerekiyor; aksi takdirde sensörler zarar görebilir. Kızılötesi emitörleri yüksek frekanslı sensörlerle birleştirdiğimizde mükemmel sonuçlar elde ediyoruz. Böylece eski, toksik ısıtma yöntemlerine gerek kalmadan her şey belirlenen sıcaklık aralığında kalır.