Pada garis pengeluaran sepanjang 300mm, perubahan sudut sebanyak setengah darjah semasa proses pemanasan bahan fotoresist sudah cukup untuk menyebabkan variasi ketebalan garis tersebut, dan akibatnya banyak produk yang tidak berkualiti akan terhasil. Inilah sebabnya kita mencipta Pemanas IR yang sesuai digunakan dalam persekitaran vakum ini – di mana had suhu sangat ketat, dan jumlah zarah di dalam bilik bersih diukur dalam unit molekul.
Apa yang penting dari segi teknikalnya
Pemanas inframerah gelombang pendek ini beroperasi dalam sistem kuarsa, di mana haba disalurkan terus ke bahan fotoresist dan substrat. Masa tindak balasnya adalah kurang dari satu saat, tanpa memerlukan sentuhan fizikal. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah sekitar ±0.1°C, manakala ulangan proses antara kumpulan produk yang berbeza adalah ≤0.2°C.
Pemanas ini boleh dimasukkan ke dalam ruang vakum dan alat-alat pengeluaran melalui flange yang standard, dengan perlindungan RF/DC. Ia dapat bertahan dalam persekitaran kelas 1–100, tanpa menghasilkan sebarang zarah. Suhu dikawal secara automatik menggunakan alat pengukur suhu yang telah dikalibrasi, dan profil suhu boleh dibandingkan dengan standard NIST.
Mengapa ia sesuai untuk proses litografi
Dalam proses litografi, kita memerlukan suhu yang stabil semasa proses pemanasan untuk menguruskan penghapusan pelarut, tekanan pada lapisan film, dan variasi ketebalan lapisan tersebut. Pemanas ini membantu menstabilkan suhu, sehingga variasi ketebalan lapisan dapat dikurangkan, dan kadar keluaran produk tetap tinggi. Respons suhu yang cepat juga memendekkan masa yang diperlukan untuk proses tersebut.
Kemampuan pemanas ini untuk beroperasi dalam persekitaran vakum membantu mengelakkan kontaminasi akibat kebocoran udara. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana haba disalurkan hanya apabila diperlukan, bukannya disimpan dalam bentuk haba yang besar. Kami telah melihat pemanas ini beroperasi selama lebih dari 5,000 jam dengan penurunan output kurang dari 5%, memungkinkan operasi 24/7 dengan jumlah zarah yang minimum.
Apa yang perlu diketahui terlebih dahulu
Proses pemasangan memerlukan penyelarasan yang tepat antara pemanas dengan wafer, serta penetapan nilai emisiviti yang sesuai untuk bahan yang digunakan. Bahan seperti pembawa kaca, BARC, dan lapisan anti-reflektif semuanya mempengaruhi cara haba disalurkan.
Ini bukanlah alat yang boleh digunakan secara langsung pada semua platform. Anda memerlukan antaramuka kawalan khusus dan persediaan mekanikal yang tepat. Lakukan ujian awal untuk menentukan profil suhu yang sesuai, kemudian tetapkan nilainya mengikut spesifikasi proses yang ditetapkan.