300 mm çapındaki üretim hatlarında, kurutma/ısıtma işlemi sırasında meydana gelen 0,1°C’den daha küçük bir sıcaklık değişimi bile “küçük bir değişim” olarak kabul edilmez. Bu tür değişimler, kritik boyutlarda nanometre seviyesinde farklılıklara neden olur ve parçacık sayısını da yanlış yönde etkiler. Otomatik wafer kurutma ısıtıcıları sadece ekstra ısı kaynağı değildir; aynı zamanda fotoresistin yumuşak/sert ısıtılması işlemleri için de önemli bir araçtır. Ayrıca, ürünlerin gönderilip gönderilmeyeceğine karar verilen son temizleme işlemleri için de gereklidir.
Teknik açıdan önemli olanlar Kurutma ısıtıcılarımız, waferlerin her noktasında sıcaklığın ±0,1°C civarında tutulmasını sağlayan, temiz oda koşullarına uygun termal modüller üzerine kurulmuştur. 24 saat boyunca sıcaklık stabilitesi ise ±0,2°C’nin altındadır. Sıcaklık artışları, fotoresistin termal özelliklerine uygun şekilde kontrol edilir; böylece çözücülerin aniden buharlaşması veya yüzeyde sorunların oluşması engellenir. Odanın ve havalandırma sistemlerinin tasarımı, hiçbir parçacığın dışarı çıkmasını engeller ve ISO 1–100 standartlarına uygun ortamların korunmasını sağlar. Ürünler arasındaki tekrarlanabilirlik ise ≤0,3°C’dür; bu da işlemin her seferinde aynı kalitede gerçekleşmesini sağlar.
Bunun neden böyle olduğunu şöyle açıklayabiliriz: Litografide ve track entegrasyonunda, tutarlı yumuşak ısıtma işlemleri viskoziteyi ve film stresini kontrol eder; tutarlı sert ısıtma işlemleri ise maruz kalma ve geliştirme işlemlerinden önce profilin sabitlenmesini sağlar. Bu ısıtıcı sayesinde kenar bölgesindeki sorunlar ve çözücülerin birikmesi gibi durumlar ortadan kalkar. Ayrıca, termal değişkenlikler ortadan kaldırılarak CD kalitesi ve üst üste binme durumu da stabilize edilir. Bu cihaz, otomatik programları desteklediğinden operatörlerin tahmin yapmasına gerek kalmaz. Ayrıca, modül yalnızca belirlenen döngüleri ısıttığı için enerji tüketimi de azalır.
Birkaç pratik not: Kurulum sırasında gaz, vakum ve havalandırma sistemleriyle sıkı bir koordinasyon gereklidir. Ayrıca ısıtıcının waferin boyutlarına ve chuck geometrisine uygun olması gerekir. Sadece boşta iken değil, işlem koşulları altında da sıcaklığın nasıl olduğunu ölçen bir kalibrasyon işlemi yapılmalıdır. Doğru şekilde ayarlandıktan sonra cihaz sürekli olarak çalışabilir; ancak düzenli kalibrasyon ve filtre kontrolleri yapılarak sıcaklık ve parçacık performansının belirlenen standartlarda kalması sağlanmalıdır.