チャンバーの壁にエネルギーを無駄にしないでください。 ウェーハを加熱するときは、そのエネルギーが基板に直接当たることが必要です。エネルギーが周囲に散乱してチャンバーの壁に吸収されてしまっては困ります。 問題は、一般的な赤外線ランプはあらゆる方向に熱を放出するという点です。狭い半導体製造装置の中では...

なぜゴールド製の反射板がウェーハの硬化処理にとって重要なのか ウェーハを硬化処理するとき、単に「温度を上げる」というだけではありません。実際には、光子を使った一種のゲームをしているのです。 多くの人々は、コストが安いためにアルミニウム製の反射板を使います。しかし問題は、アルミニウムはエネルギーを過...

MEMSウェーハを問題なく乾燥させる方法 MEMSセンサーのウェーハを乾燥させるには、バランスをうまく取る必要があります。水を素早く除去する必要はありますが、単純に熱をかけすぎると、ウェーハが歪んだり、全体が汚染されたりする危険があります。 鍵となるのは、熱が正しい場所に届くようにすることです。多...

なぜウェーハ製造においてIR硬化法を採用するのか？ 正直言って、従来の対流式オーブンは非効率的です。速度が遅く、有害な化学物質を使用する必要があり、基本的には大きな空間を温めるだけです。私たちはそうした方式から脱却しようとしています。代わりに、赤外線を利用した硬化法を採用しているのです。 大きな違...

なぜ、無鉛半導体製造において赤外線硬化を採用するのか？ ウェーハ処理装置の設計において「環境に優しい」や「無鉛」という言葉が使われるとき、多くの場合、化学物質に焦点が当てられます。しかし実際には、重要なのは熱の扱い方です。 だからこそ、私たちは赤外線硬化を利用するのです。装置全体を加熱する代わりに...

装置が爆発することなくウェーハを加熱する方法 化学的洗浄の際にウェーハを加熱するのは、かなり危険な作業です。正確な温度制御が必要ですが、その作業は可燃性の溶剤のすぐそばで行われます。注意しなければ、大変な事態になりかねません。安全を保つために、私たちは、このような環境下で火災を引き起こさない特殊な...

高性能な赤外線ハロゲンランプ：ウェーハ加工ラインに最適なアップグレードソリューション もし、高価で有名ブランドの装置を選ぶか、性能が不十分な装置を使うかの間で悩んでいるのであれば、私たちも同じ状況にありました。当社の工業用赤外線ハロゲンランプは、信頼性と高性能を兼ね備えた代替品として開発されました...

300mmプロセスにおいては、乾燥/焼成の工程で0.1°C未満の温度変動でも決して「小さな変動」とは言えないことがすぐにわかります。このような微細な温度変動によっても、重要な寸法に数ナノメートル単位の誤差が生じ、粒子数にも悪影響を与えます。自動化されたウェーハ乾燥ヒーターは、単なる加熱装置に過ぎま...

リソグラフィー装置の床面上では、ソフトベイク時にわずか0.5度のずれがあっても、CDバイアスが変化し、多くの良品ウエハーが損傷してしまいます。そうしたずれを防ぐために、私たちはウエハー加熱用ランプを独自に開発しました。これにより、設定値を正確に維持でき、推測に頼らずに温度をコントロールできます。...

ファブフロアでは、リンス工程は管理されたリスクである。残留水分は微小汚染を意味し、乾燥工程が不十分だとフォトレジストの再作業を強いられるか、パターンがウェハに到達する前に歩留まりが損なわれる。高速乾燥リンス後ランプは、その不確実性を排除するために開発された。 内部の重要ポイント この装置は短波長赤...