クリーンルーム用ベンチ用赤外線ランプ
ウェーハの温度を適切にコントロールする方法 シリコンウェーハを扱ったことがある人なら、その繊細さがよくわかるでしょう。熱を加える際に少しでも間違えると、ウェーハが歪んでしまいます。これは本当に厄介な問題です。そうした事態を防ぐために、私たちはクリーンルーム用のランプに金メッキされた反射板を使用して...
オゾンフリー赤外線ランプ
オゾンによるハードウェアの損傷を防ごう
半導体製造工場で作業を行うとき、最も避けたいのが汚染です。乾燥や硬化処理は目立たない形で行われるべきであり、ウェーハに何の痕跡も残さず、クリーンルームを汚すこともあってはなりません。
そこで役立つのが、オゾンを発生させない赤外線ランプです。
一般的な短波長赤...
赤外線ランプ用アルミニウム反射板
機器が「オーブン」になるのを防ぎましょう IRランプの問題点は、熱があらゆる方向に放出されることです。半導体のサイズが小さい場合、これは大変な問題です。反射板がないと、エネルギーの約半分が機器の内壁に当たってしまいます。これは無駄遣いです。さらに悪いことに、機器の筐体が過度に熱くなり、作業員が火傷...
ウェーハ硬化ランプ用反射板
なぜゴールド製の反射板がウェーハの硬化処理にとって重要なのか
ウェーハを硬化処理するとき、単に「温度を上げる」というだけではありません。実際には、光子を使った一種のゲームをしているのです。
多くの人々は、コストが安いためにアルミニウム製の反射板を使います。しかし問題は、アルミニウムはエネルギーを過...
UHP 超高純度 ヒーターランプ
揮発性のある場所でUHP赤外線ランプを使用する際の安全性の確保
正直に言って、化学洗浄エリアで赤外線ヒーターを使うのは、まるで火を扱うようなものです。周囲には可燃性の蒸気が漂っており、さらに腐食性の高い液体も存在します。わずかな火花や石英ケースの微細な亀裂があれば、大惨事につながります。
だからこ...
バイオセンサー製造用赤外線ランプ
バイオセンサーの加熱を適切に行うために(エネルギーの無駄遣いを避けるために)
バイオセンサーを製造する際、温度制御は非常に重要です。ポリマーを硬化させ、化学反応を促進するためには十分な熱が必要ですが、過度に加熱すると、基板が損傷してしまいます。つまり、微妙なバランスが求められるのです。
そのため、...
認定済み赤外線硬化ランプ製造業者
化学薬品が存在する環境での使用時に、装置を安全に保つために
正直に言って、赤外線ランプを化学洗浄の現場に設置するのは、非常に危険なことです。可燃性の溶剤や爆発性の蒸気が漂っている中では、わずかな火花や少し過度に高温になった表面だけで、作業日が大惨事に変わってしまう可能性があります。
そのため、私た...
炭素繊維赤外線ランプ工場
シャードの発生を防ぐ:ウェーハ製造工場におけるチューブの破裂対策 正直に言って、半導体製造工場において、赤外線ランプが破裂するのは本当に厄介な問題です。停止時間だけが問題なわけではありません。問題は、その後に起こる汚染です。重負荷がかかるとクォーツ製のケースが破壊され、ガラスの破片や微粒子がウェー...
ファブランプ用クォーツガラスシールド
ファブラトリーでのランプの効率的な利用:なぜクォーツ製シールドが重要なのか
ファブラトリーにおいて、熱というのは単に対処しなければならないものではなく、プロセス全体を動かすためのエンジンのような存在です。しかし、赤外線ランプをそのまま使っていてはいけません。そこで役立つのがクォーツガラス製のシール...
洗浄用防水赤外線ランプ
シャードの発生を防ぐ:ウェハ洗浄工程におけるIRランプのより良い利用方法
大量のウェハを生産している方なら、その悪夢のような状況をご存知でしょう。ウェハ洗浄工程でIR加熱を行っていると、突然ランプが壊れてしまいます。これは大惨事です。クォーツ管が破損すると、ガラスの破片や化学物質がウェハに付着して...
半導体用ゴールドコーティング赤外線ランプ
是非を語る:導入部 私たちがこの金メッキ処理が施された赤外線ランプを開発したのには、一つの理由があります。それは、半導体の高度な加工工程において、熱風による加熱にかかる時間を削減するためです。時間こそがコストであり、私たちはそのコストを極限まで削減したかったのです。
従来の対流式加熱では、自重に負...
高品質ウェーハ加熱ランプ
リソグラフィー装置の床面上では、ソフトベイク時にわずか0.5度のずれがあっても、CDバイアスが変化し、多くの良品ウエハーが損傷してしまいます。そうしたずれを防ぐために、私たちはウエハー加熱用ランプを独自に開発しました。これにより、設定値を正確に維持でき、推測に頼らずに温度をコントロールできます。...
ツインチューブ型の金メッキランプ
製造現場では、いつも同じ手順で作業を行います。焼成温度が0.3°C変動するだけで、フォトレジストの形状がナノメートル単位で変わり、それによってウェーハ全体の線幅にばらつきが生じます。同じ工程を実行しても、依然として歩留まりは低下します。焼成処理というのは単なる加熱だけではなく、再現性も重要です。...
すすぎ後の速乾ウェハーランプ
ファブフロアでは、リンス工程は管理されたリスクである。残留水分は微小汚染を意味し、乾燥工程が不十分だとフォトレジストの再作業を強いられるか、パターンがウェハに到達する前に歩留まりが損なわれる。高速乾燥リンス後ランプは、その不確実性を排除するために開発された。
内部の重要ポイント
この装置は短波長赤...