オゾンによるハードウェアの損傷を防ごう
半導体製造工場で作業を行うとき、最も避けたいのが汚染です。乾燥や硬化処理は目立たない形で行われるべきであり、ウェーハに何の痕跡も残さず、クリーンルームを汚すこともあってはなりません。
そこで役立つのが、オゾンを発生させない赤外線ランプです。
一般的な短波長赤外線ランプは、185nmから254nmの範囲の放射線を放出する傾向があります。問題は、この放射線が空気中の酸素と反応してオゾンを生成することです。工場内では、オゾンはまさに「腐食の原因」となります。気づく前に、工具の部品や基板が徐々に破壊されてしまいます。
この問題を解決する方法は実はとても簡単です。
特殊な石英製のケースや内部フィルターを使って、VUV領域の放射線を遮断します。200nm未満の放射線を完全に遮断することで、化学的な副産物を全く排除できます。結果、純粋な熱エネルギーだけが得られます。
最良な点は、大規模で騒音の大きい排気システムを設置しなくても、高強度の硬化処理が可能だということです。これにより、作業室全体がより清潔に保たれます。
また、処理時間も大幅に短縮されます。
対流式オーブンを考えてみてください。まず空気を加熱し、その後空気が部品を加熱します。これは効率が悪いです。一方、赤外線は直接材料にエネルギーを伝えます。効率的で、準備時間も短縮されます。さらに、このシステムをゾーニングすることで、必要な部分だけを加熱できるので、無駄なエネルギーの消費も避けられます。
しかし、注意点もあります。
高強度の赤外線ランプは非常に高温になります。特にランプヘッド部分が熱くなります。たとえ環境に優しい処理方法であっても、ハードウェアには負担がかかります。
冷却ファンや水冷ジャケットを十分に用意しなければいけません。冷却が不十分だと、ランプの端が過熱して早期に故障してしまいます。これは非常に厄介な問題です。
オゾンを発生させない赤外線ランプを使用することで、手間が大幅に削減されます。有害なガスの監視の心配もなく、「エコフレンドリー」や「鉛フリー」といった要件も簡単に満たせます。これが、より清潔で静かな工場を実現する最短の道です。