すすぎ後の速乾ウェハーランプ

ファブフロアでは、リンス工程は管理されたリスクである。残留水分は微小汚染を意味し、乾燥工程が不十分だとフォトレジストの再作業を強いられるか、パターンがウェハに到達する前に歩留まりが損なわれる。高速乾燥リンス後ランプは、その不確実性を排除するために開発された。 内部の重要ポイント この装置は短波長赤...